درحال بارگذاري...
بررسی راندمان حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین از محلول های آبی توسط فرآیند فتوکاتالیستی در حضور نانو ذرات مغناطیسی بر پایه سولفید آهن (Fe-S)
7 مرتبه مشاهده شده

بررسی راندمان حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین از محلول های آبی توسط فرآیند فتوکاتالیستی در حضور نانو ذرات مغناطیسی بر پایه سولفید آهن (Fe-S)

رسولی درمیان، حانیه.

  1. شماره راهنما:
  2. پديدآور: رسولی درمیان، حانیه.
  3. عنوان:بررسی راندمان حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین از محلول های آبی توسط فرآیند فتوکاتالیستی در حضور نانو ذرات مغناطیسی بر پایه سولفید آهن (Fe-S) / نگارش حانیه رسولی درمیان.
  4. محل اخذ مدرك:بیرجند :
  5. نام دانشگاه/پژوهشگاه:دانشگاه علوم پزشکی بیرجند
  6. نام دانشکده:دانشکده بهداشت
  7. سال اخذ مدرك:1400.
  8. مقطع:کارشناسی ارشد
  9. گرایش:مهندسی بهداشت محیط

 فهرست نقدها